今年7月，北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗(yàn)收。這套設(shè)備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設(shè)備，一套設(shè)備中實(shí)現(xiàn)反應(yīng)離子刻蝕工藝，同時(shí)具備等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積的工藝能力，既避免客戶擔(dān)心的交叉污染問(wèn)題，又為實(shí)驗(yàn)室節(jié)省了寶貴的空間和預(yù)算，是大學(xué)院校和科研機(jī)構(gòu)的熱門(mén)選擇。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特) PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達(dá)12” 直徑的基片上,可以通過(guò)不同配置實(shí)現(xiàn)高速沉積，或控制氮化物薄膜應(yīng)力，或支持CNT和石墨烯生長(zhǎng)。主要型號(hào)包含NPE-3000，NPE-3500，和NPE-4000。同時(shí)，NANO MASTER(那諾-馬斯特)提供的全自動(dòng)RIE系統(tǒng)主要用于刻蝕氧化物、氮化物和金屬，可以根據(jù)需要配置ICP實(shí)現(xiàn)快速深刻，DRIE系統(tǒng)可用于深硅刻蝕。主要型號(hào)包含NRE-3000，NRE-3500，NRE-4000，NDR-4000。 如果用戶同時(shí)有RIE和PECVD的需求，我們可以提供雙系統(tǒng)方案以節(jié)省空間和預(yù)算。