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進(jìn)口微波去膠機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。進(jìn)口微波去膠機(jī)系統(tǒng)控制：PC,Windows,RS232,USB,Ethernet(也適用于遠(yuǎn)程控制)10.4”觸摸屏、圖形用戶界面WindowsOffice兼容存儲(chǔ)處理數(shù)據(jù)和錯(cuò)誤信息，處理數(shù)據(jù)輸出工藝參數(shù)圖形曲線的監(jiān)測(cè)自動(dòng)或手...

熱真空系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)控制、安全連鎖，以及多級(jí)密碼授權(quán)訪問保護(hù)的功能。熱真空系統(tǒng)可以用于超過24小時(shí)的圈子全自動(dòng)熱、冷循環(huán)情況下測(cè)試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)zui通常的應(yīng)用之一是太空模擬。熱真空系統(tǒng)腔體的大致尺寸為：直徑24"，長(zhǎng)度43"。帶有一個(gè)16"x32"的滑動(dòng)加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺(tái)也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個(gè)平臺(tái)的溫度均勻度可達(dá)/-1攝氏度。加熱平臺(tái)安裝在滾軸上，可以方便拉出zui大到75%的長(zhǎng)度...

進(jìn)口掩模板清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。進(jìn)口掩模板清洗機(jī)技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時(shí)保證在樣片的損...

等離子刻蝕反應(yīng)離子刻蝕一體機(jī)又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中zui常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空...

NANO-CHINA那諾中國(guó)正式推出。我們將持續(xù)更新我們的產(chǎn)品資料，敬請(qǐng)關(guān)注。

那諾中國(guó)在化工儀器網(wǎng)正式落戶，并建設(shè)相應(yīng)的個(gè)性化NANOCHINA17。隨著產(chǎn)品的陸續(xù)發(fā)布，那諾中國(guó)也正式展開了行業(yè)推廣的步伐。

祝賀Nano-Master(那諾-馬斯特)公司新近研發(fā)的LSC系列大型全自動(dòng)分劃板清洗機(jī)已在美國(guó)售出。該套系統(tǒng)作為帶保護(hù)膜分劃板無損清洗的系統(tǒng)的正式售出，代表了NANO-MASTER無損兆聲清洗的技術(shù)在工業(yè)化量產(chǎn)上的真正成功，實(shí)現(xiàn)了計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制、全自動(dòng)上下載片、無損兆聲清洗技術(shù)的結(jié)合。

2015年7月，湖北文理學(xué)院NRE-3500反應(yīng)離子刻蝕/等離子刻蝕雙功能系統(tǒng)順利完成驗(yàn)收。