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全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的產(chǎn)品特點(diǎn)：不銹鋼腔體260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵13.56MHz，300-600WRF射頻電源以及1KWDC直流電源晶振夾具具有的帶觀察視窗的腔門(mén)易于上下載片基于LabV...
微波等離子清洗機(jī)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì)：一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不...
熱真空試驗(yàn)箱由真空容器、熱沉、真空泵組、冷卻系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、控制及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)及其他特殊需求的機(jī)構(gòu)組成。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，可以根據(jù)不同的試驗(yàn)需求所組合為*適用于用戶(hù)的個(gè)性化試驗(yàn)裝置。*的程序化控制單元設(shè)計(jì)，具有靈活的控制功能，對(duì)于典型的試驗(yàn)*實(shí)現(xiàn)了真正意義的自動(dòng)化控制。熱真空試驗(yàn)箱的設(shè)備特點(diǎn)：真空泵組所用的真空泵和各種配件均采用國(guó)際設(shè)備，確保設(shè)備在整個(gè)工作使用范圍內(nèi)均能高效、穩(wěn)定地運(yùn)行；高強(qiáng)度、高可靠性的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和熱沉設(shè)計(jì)確保了設(shè)備的高可靠性；專(zhuān)門(mén)定制的高強(qiáng)度氟橡膠密封條–...
光學(xué)鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于數(shù)碼科技(成像、顯示、電路、結(jié)構(gòu)裝飾件)，傳統(tǒng)光學(xué)、眼鏡，科學(xué)儀器、光通信、半導(dǎo)體、新能源等。光學(xué)鍍膜設(shè)備光學(xué)薄膜是建立在光學(xué)元件上鍍特定的膜質(zhì)來(lái)改變光波傳遞的特性、干涉光的效果達(dá)到的效果，高科技改變著人們的生活，光學(xué)鍍膜設(shè)備自然受到市場(chǎng)青睞，后期將會(huì)有更廣闊的前景，那么光學(xué)薄膜在光學(xué)系統(tǒng)中的啟到哪些作用呢？1、提高光學(xué)效率，減少雜光，例如反射鏡鍍制光學(xué)薄膜，提高或者減少光的反射效果。高反射鏡只取反射光，盡量減少透射光；減反射鏡減少光學(xué)元器件表面的發(fā)射光...
進(jìn)口晶圓清洗機(jī)采用Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。進(jìn)口晶圓清洗機(jī)設(shè)備特點(diǎn)：▲可更換清洗吸盤(pán)，可使用4-12英寸的清洗吸盤(pán)；▲操作程序可按作業(yè)需求編寫(xiě)調(diào)整，設(shè)備運(yùn)行流程、清洗時(shí)間及各項(xiàng)參數(shù)可自行編制；▲設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)及參數(shù)在線(xiàn)實(shí)時(shí)監(jiān)控，自動(dòng)門(mén)配有安全光柵，保證操作安全；▲采用真空吸附式清洗盤(pán)，晶元夾具的取放更安全、方便；▲擺臂式清洗，清洗范圍可編制...
等離子體增強(qiáng)MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積),針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路、5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、PC全自動(dòng)控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無(wú)油真空泵(5x10-7Torr極限真空)，*的安全互鎖。等離子體增強(qiáng)MOCVD技術(shù)特點(diǎn)：臺(tái)式系統(tǒng)5個(gè)帶獨(dú)立冷卻槽的...
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的清洗：設(shè)備使用一個(gè)星期后（三班），因鍍料除鍍?cè)诠ぜ砻嫱?，亦因無(wú)定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍?cè)胶?，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來(lái)越慢。此時(shí)，應(yīng)對(duì)工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不必要拆落來(lái)的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在水溶液里，水的比例看需要浸泡時(shí)間長(zhǎng)短以及不傷襯板為原則。注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。最后安裝襯板...
等離子去膠機(jī)和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。等離子去膠機(jī)的工作原理：等離子去膠法，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500V高壓，由高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，使石英管內(nèi)形成強(qiáng)的電磁場(chǎng)，使氧氣電離，...
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